ВИСОКОПРОДУКТИВНЕ ПРЯМОЛІНІЙНЕ ДЖЕРЕЛО ВАКУУМНО-ДУГОВОЇ КАТОДНОЇ ПЛАЗМИ З ФІЛЬТРУВАННЯ ВІД МАКРОЧАСТОК
Рекомендована область застосування:
Нанесення різного роду покриттів:
- зносостійкі покриття з низьким коефіцієнтом на елементах тертя деталей машин і механізмів в інструментальній промисловості, машинобудуванні, текстильній промисловості і т.д.;
- багатокомпонентні зносостійкі покриття на основі нітриду, карбідів, окислів і їх сумішей для зміцнення прецизійного інструменту, лопаток компресорів і турбін авіаційних двигунів;
- біологічно інертні покриття, оптичні прозорі, діелектричні, корозійно-стійкі покриття, хімічно інертні покриття.
Технічна характеристика:
- Досяжний струм іонів на виході при струмі дуги 100А - 5А;
- діаметр покриття 180 мм при відхиленні по товщині ± 5%;
- швидкість осадження Ti покриття на відстані 150 мм від вихідного отвору - 20 мкм/год.
Переваги перед аналогами:
1. Функціональні переваги:
Збільшення продуктивності устаткування в 1,5-2 рази.
Рівномірність покриття ± 5% по товщині.
Виключення етапів полірування після нанесення покриття.
2. Експлуатаційні переваги:
Стабільність джерела незалежно від ступеня вигоряння катода.
Конструкторська простота.
3. Фінансові переваги:
Економія витрат за рахунок зростання продуктивності.
Економія витрат за рахунок виключення етапу полірування.
Металоємність джерела менша, ніж у криволінійних фільтрів.
Стадія завершеності розробки:
Впроваджено в виробництво
Опис розробки:
() У джерелі плазми реалізована конфігурація транспортуючого магнітного поля, системи рефлекторів і пасток макрочасток, яка дозволяє забезпечити високу якість покриттів при істотному збільшенні генерації очищених потоків плазми в порівнянні з існуючими системами фільтрації вакуумно-дугової плазми.
Відомості про новизну розробки:
є патентів України -- 3 шт. є патентів інших країн -- 4 шт.
Результати дослiджень
Відповідає технічній характеристиці
Можливість передачі за кордон:
Продаж ліцензій Реалізація готової продукції Спільне виробництво,продаж,эксплуатація
Фотодоповнення
Країна
Україна
Для отримання додаткової інформації звертайтесь:: E-mail: gal@uintei.kiev.ua
|