ПРИСТРІЙ ГЛИБОКОГО ОЧИЩЕННЯ Ga, In і Pb
Рекомендована область застосування:
Отримання Ga, In і Pb чистотою > 99,9999% для синтезу напівпровідникових сполук і створення гетероструктур для:
- мікроелектроніки - інтегральні схеми (GaAs);
- оптоелектроніки - сцинтиляційні датчики PbWO4, PbMoO4 для пошуку подвійного beta-розпаду і частинок темної матерії;
- матеріалів СВЧ - електроніки (GaAs, GaN, InP, InAs, InSb, GaAlAs/GaAs, AlGaN/GaN, InGaAs/InP та ін.)
Технічна характеристика:
- Маса вихідного завантаження матеріалу - 2,3 кг;
- продуктивність пристрою - 300...400 г/год;
- відсоток виходу продукту - 90% від початкової завантаження;
- розміри пристрою з нагрівачем і екранами:
висота - 350 мм;
діаметр - 200 мм;
вага - 4 кг;
- матеріал для виготовлення тигля і конденсатора - графіт марки МПГ-7; нагрівача і екранів - графіт марки МГ-1 ОСЧ 7-3, ТУ 48-20-9082;
- робоча температура - 950...1350 °С;
- контроль температури тигля і конденсатора - термопари ВР-5/20;
- вакуум в холодному і гарячому стані - 1,33·10 в -3 ступені Па;
- реалізація пристрою на базі стандартних пічних агрегатів типу СЗВН-0,55.4,5/14-И1.
Переваги перед аналогами:
- Висока ефективність очищення (з 99,9...99,99% до > 99,9999%);
- підвищений вихід придатного продукту (90 % від початкового завантаження);
- висока продуктивність (300...400 г/год).
Стадія завершеності розробки:
Впроваджено в виробництво
Опис розробки:
() Пристрій дозволяє з вихідних Ga, In і Pb технічної чистоти (99,9...99,99%) отримувати кінцеві продукти чистотою > 99,9999% з високим виходом придатного продукту і високою продуктивністю. Пристрій для глибокого очищення Ga, In і Pb заснований на рафінуванні матеріалу дистиляцією у вакуумі. Пристрій дозволяє проводити одночасне очищення від важколетучих домішок шляхом випаровування з тигля основного металу та очищення від легколетучих домішок шляхом витримки конденсату при високій температурі в процесі очищення, що забезпечує більш глибоке очищення галію, індію та свинцю від металевих домішок і підвищує продуктивність процесу рафінування.
Результати дослiджень
Відповідає технічній характеристиці
Можливість передачі за кордон:
Реалізація готової продукції
Фотодоповнення
Країна
Україна
Для отримання додаткової інформації звертайтесь:: E-mail: gal@uintei.kiev.ua
|