Назначение разработки: Нанесение многослойных или многокомпонентных металлических и диэлектрических слоёв, в том числе для формирования наноструктурированных каталитических слоёв (Fe, Ni, Co и других). Установка обеспечивает проведение различных процессов нанесения пленок толщиной 0,1–5 мкм на подложки диаметром 60–200 мм, а также на квадратные или прямоугольные с линейными размерами 30–200 мм.

Рекомендуемая область применения: нанотехнологии

Техническая характеристика: Скорость нанесения: – металлических пленок.....................до 0,5 мкм/мин; – диэлектрических пленок...................до 0,2 мкм/мин. Неравномерность пленок по толщине (подложка диаметром 150 мм).......± 3 %. Температура подложек.......................до 300°С.

Стадия готовности разработки: Готово к внедрению

Описание разработки:
()
Установка имеет четыре рабочих позиции: - Шлюзование и нагрев. - Ионную очистку поверхности подложек. - Магнетронное распыление материалов из трех мишеней малого диаметра. - Магнетронное распыление материалов из одной мишени большого диаметра. Особенности: - Магнетронное распылительное устройство планарное с мишенью диаметром 280 мм или мультикатодное с мишенями диаметром 100 мм. - ВЧ-очистка подложек перед нанесением слоёв. - Шлюзовая камера загрузки – выгрузки подложек диаметром до 200 мм (200х200 мм). - Безмаслянная система откачки (турбомолекулярные или криогенные, форвакуумные насосы). - Микропроцессорная система управления. - Возможность встраивания в «чистую» комнату. - Возможность объединения в кластерный комплекс - стыковка отдельных установок через шлюзовую камеру или с платформой транспортно-загрузочного модуля. Конструкция обеспечивает несколько режимов функционирование магнетронов: - Тренировка мишеней (очистка поверхности) - Напыление многослойных пленок - Напыление многокомпонентных (трех или двухкомпонентных) пленок - Напыление однокомпонентных пленок Вакуумная система установки выполнена полностью на основе безмасляных средств откачки с использованием импортных турбомолекулярного (криогенного) и форвакуумного (сухого) насосов. Газовая система снабжена несколькими каналами подачи инертного и активного газов с контролем расхода каждого из них (при реактивных процессах нанесения пленок). Дополнительно для контроля газовой среды в рабочей камере до и в процессе нанесения пленок установка снабжена квадрупольным масс-спектрометром с индивидуальной откачной системой. Для управления установкой используется импортный промышленный контроллер и персональный компьютер. Программное обеспечение позволяет контролировать все технологические и машинные параметры, а также проводить диагностику отклонений от них (база текущих данных, характеризующая стабильность работы установки). Для визуального контроля информация выводится на дисплей.

Результаты испытаний
Готово к внедрению

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Реализация готовой продукции
Совместное произв.,продажа, эксплуатация

Фотоприложение

Cтрана Россия

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua