Назначение разработки: Высокоэффективная комплексная обработка жидких и твердых веществ путем одновременного воздействия различных бактерицидных факторов (СВЧ, УФ-излучение, озон).

Рекомендуемая область применения: Применение установок перспективно в медицинских и научных учреждениях, на предприятиях бытового обслуживания, в домашних условиях, в том числе при обеззараживании питьевой, технической и сточных вод.

Преимущества перед аналогами: Результирующий обеззараживающий эффект установки благодаря комплексному действию ряда бактерицидных факторов многократно превышает эффект автономной УФ, СВЧ или озонной обработки. Установка имеет простую и надежную конструкцию. Обладает широкими функциональными возможностями, обеспечивая широкий диапазон режимов обработки. По сравнению с традиционно используемыми аргонортутными УФ-лампами безэлектродные СВЧ газоразрядные лампы имеют значительно больший (3-4 раза) срок службы, в течение которого обеспечивают стабильный поток УФ-излучения.

Стадия готовности разработки: Изготовлен опытный образец

Описание разработки:
()
В бактерицидной установке источником УФ-излучения (l=253,7 нм) служат две съемные безэлектродные СВЧ газоразрядные лампы оригинальной конструкции. Магнетрон (рабочая частота 2450 Мгц, мощность 850 Вт) создает в рабочей камере установки СВЧ электромагнитное поле, энергия которого возбуждает и поддерживает СВЧ-разряд в лампах. Озон образуется УФ-излучением длиной волны l=185 нм. Специально разработанный коаксиальный СВЧ-адаптер обеспечивает устойчивую работу магнетрона при высоком КПД в условиях больших перепадов нагрузки. В конструкции предусмотрена возможность дозированного введения в рабочую камеру и в жидкость, поступающую в кварцевый змеевик, кислорода для обеспечения стабильного озонообразования. Используемые при создании установки технические решения содержат значительный объем ноу-хау.

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа лицензий
Продажа технической документации
Создание совместного предприятия
Реализация готовой продукции

Фотоприложение

Cтрана Россия

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua