Назначение разработки: Разработка, которая получила название VDS процес, предназначена для распыления защитных покрытий на различные поверхности.

Рекомендуемая область применения: Технология может быть применена для напыления в контролируемой газовой среде или воздухе.

Преимущества перед аналогами: По сравнению с традиционными методами напыления, VDS процесс обеспечивает: - Высокоэффективное нанесения широкого спектра материалов на всевозможные виды подложек; - Отсутствие необходимости в использовании связующих веществ с сохранением непревзойденных адгезивных свойств покрытия; - Получение широкого диапазона толщины покрытия с минимальным показателем разнотолщинности; - Создание наноструктурированных тонких пленок высокой степени гомогенности и минимальным количеством поверхностных дефектов; - Низкую стоимость производства.

Стадия готовности разработки: Проверено в лабораторных условиях

Описание разработки:
()
Основной особенностью VDS технологии является то, что напыление материала происходит при одновременном увеличении двух факторов: количество материала, которое переносится от испарителя к подложке и количество материала, что осаждается на подложку. Это обеспечивает получение высоко плотных или пористых керамических и металлокерамических покрытий заданной толщины на металлических (керамических) подложках. Скорость напыления в 100-1000 раз больше, чем в существующих вакуумных PVD, CVD технологиях и в 10 раз больше по сравнению с плазменными и «кoатинг» технологиями нанесения материалов.

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Совместное доведение до промыш. уровня
Совместное произв.,продажа, эксплуатация

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua