Назначение разработки: Предназначены для управления электромагнитным излучением (монохроматизации, фокусирования, поляризации) в диапазоне длин волн 0,5-50 нм.

Рекомендуемая область применения: Проэкционная рентгеновская литография, рентгеноспектральный анализ легких химических элементов (от Be до Mg), астрофизика, рентгеновская микроскопия, диагностика плазмы.

Техническая характеристика: -коэффициент отражения – дл 70%; -спектральное разрешение – до 10-2; -размер – до диаметра 80 мм; -термоустойчивость – до 10000С; -изготавливаются на плоских и криволинейных подложках.

Стадия готовности разработки: Внедрено в производство

Результаты испытаний
Отвечает технической характеристике

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа лицензий
Продажа технической документации
Реализация готовой продукции

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua