Назначение разработки: Профессиональный сканирующий зондовый микроскоп универсальный предназначен для сканирования образцов на атомарном уровне и позволяет получить полную и достоверную информацию об их свойствах: рельефе поверхности, разделении магнитных и электрических полей, локальной жесткости и эластичности (включая количественную оценку модуля Юнга), вязкости, силе трения, адгезии и пр.

Рекомендуемая область применения: Наноэлектроника. Применяется для исследования полимерных материалов (сферулиты и дендриты, полимерные монокристаллы, блок-сополимеры, полимерные наночастицы, ЛБ-пленки, тонкие пленки).

Техническая характеристика: В состав данной модели входят также наборы зондовых датчиков, тестовых и калибровочных структур специально разработанных для характерных применений конкретной комплектации. Наличие жидкостной головы позволяет проводить измерения в области Life Sciences. Возможно исследование различных материалов с нагреванием до 130 *С.

Преимущества перед аналогами: Модульный принцип конструкции обеспечивает уникальную возможность конфигурировать прибор для определенных применений и конкретных методик исследования. Диапазон измерений может варьироваться от 1,3 до 15 мкм по Z, и от 3 до 150 мкм по XY. Высокая степень разрешения от молекулярного до атомарного уровня в режимах СТМ и контактной АСМ достигается за счет применения сканеров с диапазонами: 3х3х1, 3 мкм и 10х10х2 мкм.

Стадия готовности разработки: Готово к внедрению

Описание разработки:
()
Возможность сканирования на атомарном уровне обеспечивается низким уровнем шумов сканера (0,25 А RMS по Z) и предельно малой величиной шага сканирования (используется 22-х разрядный АЦП). Управляющая электроника нового поколения позволяет работать в высокочастотных режимах (до 5 мГц). Эта возможность является принципиальной при работе с высокочастотными модами атомно-силового микроскопа или же при использовании высокочастотных кантилеверов. Измерительные методики: На воздухе: -- СТМ -- АСМ (контактная + полуконтактная + бесконтактная) -- Отображение фазы -- Модуляция силы -- Отображение сопротивления растеканию -- Отображение сил адгезии -- АСМ силовая литография -- АСМ токовая литография -- СТМ литография В жидкости: -- АСМ (контактная + полуконтактная + бесконтактная) -- Отображение фазы -- Модуляция силы -- Микроскопия сил адгезии -- АСМ литография

Результаты испытаний
Готово к внедрению

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа лицензий
Продажа технической документации
Создание совместного предприятия
Реализация готовой продукции

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua