Назначение разработки: Назначение: - печать на бумаге и текстильных материалах в полиграфической индустрии;; - изготовление упаковки для пищевой индустрии; - изготовление анилоксовых валов широкого диапазона диаметров и длин.

Рекомендуемая область применения: Полиграфическая индустрия. Пищевая промышленность.

Техническая характеристика: Основные технические характеристики: Система ионной очистки Магнетронная система Энергия 300 - 2000 ЕV Активирующий газ азот, кислород Рабочий газ аргон Рабочий газ аргон Давление (6 - 12) x 10-4 Torr Давление (2 - 8) x 10-3 Torr Диаметр 10 - 40 мм Sputtering TiN rate 0,6 нм / с

Стадия готовности разработки: Готово к внедрению

Описание разработки:
()
Разработанная плазменная технология является общим технологическим процессом, который состоит из ионной очистки, полировки и техники нанесения покрытия анилоксового вала. Эта технология увеличивает адгезию поверхности анилоксового вала и предупреждает его загрязнение. Осаждение бинарных химических соединений (нитридов, оксидов, карбидов) увеличивает прочность и стойкость к коррозии анилоксового слоя и увеличивает его влагостойкость. Специальная конструкция вакуумной камеры позволяет перемещать анилоксовый вал от зоны нагрева в зону плазменной очистки, а затем в зону нанесения, где вращение цилиндрического магнетрона формирует покрытие.

Результаты испытаний
Готово к внедрению

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа лицензий
Продажа технической документации
Создание совместного предприятия

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua