Назначение разработки: Позволяет выполнять прецизионную микрообработку, в частности, микромаркировку прозрачных материалов с использованием дешевого и надежного неодимового лазера длиной волны 1,06 или 0,53 мкм, что соответствует области прозрачности указанных материалов. При этом энергия лазерного излучения передается в материал через промежуточную плазменную фазу.

Рекомендуемая область применения: Применение: - микроэлектронное и оптическое производство; - лазерное производство сувениров; - наружная реклама.

Техническая характеристика: Основные технические характеристики: Размер зоны обработки до 2 х 2 мм Длина волны лазерного излучения 1,06 или 0,53 мкм Время маркировки 15 см Материалы Стекло, плавленый кварц, сапфир и другие прозрачные материалы Глубина маркировки 5 - 200 мкм Разрешение 10 мкм Потребление электроэнергии 200 Вт

Стадия готовности разработки: Готово к внедрению

Описание разработки:
()
Лазерный луч проходит через прозрачный образец, за которым находится непрозрачная эластичная мишень. В узком промежутке между образцом и мишенью образуется плазма, которая и вызывает первичный этап микротравления прозрачных мишеней.

Результаты испытаний
Готово к внедрению

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа технической документации
Создание совместного предприятия

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua