Назначение разработки: Метод формирования нанообразований CDS в пористой матрице предназначен для создания первичного сырья для устройств наноразмерной оптоэлектроники.

Рекомендуемая область применения: Предприятия оптоэлектроники, научные лаборатории.

Техническая характеристика: Экспериментально определено, что 8-ми разовый микросинтез CdS при занижении концентрации реагентов, по сравнению с традиционным в 10 раз, позволяет сформировать внутри матрицы крупнопористого стекла (типа D) равномерно распределенные по ее толщине нанообразования CdS со средним диаметром около 5 нм.

Преимущества перед аналогами: Непосредственных аналогов разработанного метода в мире неизвестно. Полупроводниковые наночастицы разного состава, о создании которых сообщается в литературе, формируются традиционным способом в полимерах, желатине, золь-гелевых стеклах и цеолитах. Для этих материалов типична определенная пластичность, которая препятствует воспроизводимости результатов из-за невозможности контролируемого ограничения размеров частиц, которые формируются. Использование многократного микросинтеза в пористом стекле позволяет устранить указанные недостатки.

Стадия готовности разработки: Готово к внедрению

Технико-экономический эффект: Расходование реагентов во время многократного микросинтеза в пористом стекле не превышает их количества, необходимого при использовании традиционного метода, а стоимость материала матрицы существенно ниже, чем, например, золь-гелевого стекла.

Описание разработки:
()
Традиционный метод синтеза CdS путем реакции ионов Cd2+ с газообразным H2S является непригодным для формирования нанообразований в пористой матрице, поскольку ее поверхность быстро покрывается пленкой CdS, которая, закупоривая входы в щели, мешает проникновению туда реагентов. Для решения проблемы предлагается осуществлять синтез при заведомо заниженной концентрации реагентов. Низкая концентрация составляющих реакции не позволит образоваться пленке на поверхности матрицы, и частицы CdS молекулярных размеров будут формироваться непосредственно внутри щелей. Повторение указанной процедуры приведет к росту размеров частиц, образовавшихся на предыдущем этапе, поскольку это энергетически выгоднее, чем возникновение новых формирований молекулярных размеров. Таким образом, последовательно повторяя такой микросинтез необходимое количество раз, можно достичь необходимых размеров кластеров CdS внутри матрицы. Рост размеров кластеров ограничен сверху стенками щелей, следовательно использование нанопористой матрицы обеспечит формирование в ней нанообразований CdS.

Результаты испытаний
Готово к внедрению

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа технической документации
Совместное доведение до промыш. уровня

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua