Рекомендуемая область применения: Электроника, оптоэлектроника, приборо- и машиностроение.

Преимущества перед аналогами: Электронно - лучевая технология отличается от существующих методов дугового и лазерного выпаривания углерода наявностью многих параметров тонкого регулирования основных стадий процесса выпаривания, формирования парового потока и его конденсации: - Площади, средних значений скорости выпаривания и температуры атомов (молекул), которые выпариваются с поверхности "hot pool" вольфрама. - Температуры, состава и молекулярной структуры парового потока после отражения от нагретых поверхностей, ионизации первого потока, введении газов и примесей неорганических и органических веществ, включая катализаторы роста макромолекулярных структур типа нанотрубок, фулеренов. - Температура поверхности конденсации ориентированого парового потока в интервале от комнатной до 1000-1200 град.С и соответствующих структур от аморфных до нано- и микро- размерных. Была продемонстрирована возможность получения макромолекулярных (фулерены, нанотрубки) и алмазоподобных структур, карбидов и композиционных материалов (покрытий) на их основе. Есть опытно-промышленная электронно-лучевая установка мощностью 250 кВт, адаптированная к указанным технологическим вариантам.

Стадия готовности разработки: Опробовано в режиме опытной эксплуатации

Описание разработки:
()
Технология базируется на предложенном нами и запатентованом в Украине и США методе электронно-лучевого выпаривания углерода (графита) с использованием жидкой ванны вольфрама и с последующей конденсацией парового потока. Выпаривание осуществляется следующим образом: на торце цилиндрического блока графита диаметром 50-100мм и заданной длины удерживается плоско-цилиндрическая таблетка вольфрама высотой 5-10 мм, которая расплавляется электронным лучом и создает "hot pool". Устанавливается безпрерывный транспортный процесс растворение углерода в объеме жидкой ванны, следующего выпаривания с поверхности ванны и создание интенсивного парового потока атомов (кластеров) углерода. Вольфрам при этом практически не испаряется. Рядом с указанным источником выпаривания углерода распологается другой независимый традиционный источник электронно-лучевого выпаривания металлических и неметаллических веществ, которые при необходимости, путем выпаривания, вводятся в основной паровой поток углерода. (Возможно использовать и третий источник). В последнее время этот метод был усовершенствован путем применения техники отражения парового потока углерода (или углерода с добавками) от нагретых до высоких температур (1000-1800 град.С) поверхностей (зеркал) с целью формирования в пространстве паровых потоков заданной ориентации и более однородных по составу, структурой и энергией частиц. Это усовершенствование необходимо для дальнейшего осаждения парового потока и "конструирования" заданной структуры конденсатов. В качестве дополнительных технологических параметров регулирования процессом осаждения и структуры конденсатов можно применять ионизацию парового потока и введение газов в вакуумную камеру. Температура поверхности осаждения - один из основных технологических параметров, который контролирует структуру конденсатов. Скорость испарения блока графита диаметром 70 мм равняеться 1,0-1,1 кг/час.

Сведения о новизне разработки:
имеется патентов Украины -- 1 шт.
имеется патентов других стран -- 1 шт.

Результаты испытаний
Обеспечивает получение стабильных резуль

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua