ВАКУУМНАЯ МАГНИТОДИНАМИЧЕСКАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ ЛИТЬЯ ПОД НИЗКИМ КОМБИНИРОВАННЫМ ДАВЛЕНИЕМ
Назначение разработки:
- Приготовление сплавов с расплавлением легирующих компонентов и одновременным перемешиванием сплава;
- нагрев и терморегулирование жидкого сплава с его электромагнитным перемешиванием;
- вакуумное рафинирование жидкого сплава с его электромагнитным перемешиванием;
- модифицирование сплава с его электромагнитным перемешиванием;
- регулированная програмная заливка сплава в литейную форму под воздействием электромагнитного давления;
- кристаллизация отливки под комбинированным воздействием на кристаллизующийся сплав электромагнитного и пневматического давления;
- терморегулирование жидкого сплава в тигле во время кристаллизации отливки.
Рекомендуемая область применения:
Литейное производство.
Техническая характеристика:
Полезная емкость тигля, кг: 400;
производительность при заливке в форму (расход металла), кг/с: не меньше 6;
максимальная температура металла, °С: 750;
мощность электромагнитной системы в режиме терморегулирования, кВт: 13;
вакуум для работы, кПа (мм. рт. ст): 0,133;
максимальное пневматическое давление, кПа (кг/кв.см): 50 (0,5);
максимальное электромагнитное давление, кПа (кг/кв.мм): 20 (0,2).
Стадия готовности разработки:
Внедрено в производство
Описание разработки:
() Установка оборудована процессором для контроля и регулирования параметров технологических процессов.
Строение установки: тигель; кольцевой горизонтальный канал; камера; магнитопровод индуктора; катушка индуктора; рабочая зона; металлопровод; область влияния электромагнита; жидкий расплав; кристаллизатор; затвердевшая отливка.
Результаты испытаний
Отвечает технической характеристике
Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов Продажа лицензий Совместное доведение до промыш. уровня
Фотоприложение
Cтрана
Украина
За дополнительной информацией обращайтесь: E-mail: gal@uintei.kiev.ua
|