технологии

ТРАНСФЕР ИННОВАЦИОННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

ТОНКОЕ ШИРОКОПОЛОСНОЕ РАДИО-ПОГЛОЩАЮЩИЕ ПОКРЫТИЕ ДЛЯ ЗАЩИТЫ ОТ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ МИКРОВОЛНОВОГО ДИАПАЗОНА


Назначение разработки: Предлагается разработка радио-поглощающих покрытий на основе металлических пленок нанометровой толщины с искусственно созданной структурой электропроводящих островков (мета-материал).

Рекомендуемая область применения: Научно-исследовательские организации и промышленные предприятия, участвующие в разработке и производстве новых систем защиты от электромагнитного излучения.

Преимущества перед аналогами: Преимуществом покрытий является их малая толщина и широкая полоса поглощения электромагнитного излучения (в 2-5 раз больше, чем в современных аналогах при той же толщине).

Стадия готовности разработки: Требуется доработка

Описание разработки:
()
Поглощающие и отражающие свойства покрытий связаны с влиянием размерных эффектов на их резистивные свойства. Было получено 80-90% поглощения энергии падающего электромагнитного излучения в 8 мм и 3 см диапазонах длин волн для покрытий, содержащих только один слой металла с высокой проводимостью, заданной структурой островков и толщиной около 10 нм. Предполагается, что эффективность поглощения будет увеличена для покрытий, которые будут содержать несколько слоев металла и после оптимизации формы и размера островков. Аналогичные результаты ожидаются и для других диапазонов электромагнитных волн за счет слабой частотной зависимости наблюдаемого эффекта. Предполагается, что общая толщина защитного покрытия не превышает 1-2 мм. Для изготовления покрытий применяются методы высоко-вакуумного осаждения. Эти методы обеспечивают приемлемую воспроизводимость свойств покрытий и обеспечивают минимальные затраты материалов за счет высокой степени контроля параметров процесса.

Сведения о новизне разработки:
имеется патентов Украины -- 1 шт.
имеется патентов других стран -- 1 шт.


ноу-хау--
1 шт.

Результаты испытаний
Отвечает технической характеристике

Возможность передачи за рубеж:
Совместное доведение до промыш. уровня

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua

или заполнить форму:
Название организации :
Адрес :
Расчетный счет :
Банк :
МФО :
Код ОКПО :

Данные о руководителе научной организации :
Фамилия :
Имя :
Отчество :
Ученая степень, научное звание :
Телефон :
Факс :
E-mail :
Предложения по сотрудничеству (совместное патентование, совместное предприятие, продажа готового продукта, прочее) :
Страна: