Рекомендуемая область применения: На предприятих машиностроения, химической электротехнической и перерабатывающей промышленности для изготовления изделий с высокими электроизоляционными характеристиками, при ремонте на месте повреждённой электроизоляции силовых кабелей.

Преимущества перед аналогами: Повышение срока службы облицовок технологического оборудования химической и электрохимической обработки более чем в 1,5 раза. Обеспечивает качественное нанесение защитных коррозионностойких слоёв на поверхности корпусных деталей технологического оборудования, эксплуатирующегося в растворах кислот и щелочей.

Описание разработки:
()
Технологический процесс и оборудование позволяют наносить коррозионностойкие покрытия из дешовой композиционной шихты на стенки ванн электрохимической обработки и на другие технологичекие ёмкости. Возможность напыления композиционной шихты с легкоплавкими компонентами. - Производительность нанесения коррозионностойких покрытий толщиной 0,4 мм - 300 дм.кв./ч; - удельная стоимость нанесения защитного слоя толщиной 0,4 мм - 3,5 $/м кв.; - скорость коррозии покрытий в растворах для электрохимической обработки, не более - 0,005 мм/год; - минимальный размер частиц напыляемой шихты - 10 мкм; - минимальная температура плавления наиболее легкоплавкого компонента напыляемой шихты - 90 град. С. Себестоимость нанесения покрытия 1 м защитного покрытия в 3 и более раз ниже, чем известными методами футеровки технических ёмкостей за счёт использования стойких к коррозии компонентов напыляемой шихты (полимеров и ситаллов). Основные технико-экономические показатели разработанной технологии соответствуют лучшим зарубежным аналогам, например фирм "Poly-world Ltd." (США), "JAFFA" (Израиль) а по удельной стоимости нанесения защитного слоя превосходит их. Разработанное оборудование в 3 раза дешевле лучших зарубежных аналогов - "ZIS" (Германия) и "8КМ1" (Франция). Технология нанесения покрытий и оборудование являются экологически безопасными.

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа технической документации
Совместное доведение до промыш. уровня

Фотоприложение

Cтрана Беларусь

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua