Назначение разработки: Украинский институт разработал и апробировал новую технологию лазерного упрочнения размалывающего барабана, которая выгодно отличается от широко применяемых в настоящее время в промышленности способов упрочнения (объемной, газоплазменной закалки, ТВЧ, различных видов химико-термической обработки) универсальностью, гибкостью, высокой изводительностью, простотой автоматизации.

Рекомендуемая область применения: Сельское хозяйство.

Преимущества перед аналогами: Производственные испытания барабанов, подвергнутых лазерной обработке, обеспечили повышение производительности непрерывной работы барабана в 5 раз.

Стадия готовности разработки: Готово к внедрению

Описание разработки:
()
Основной деталью мельницы для переработки сои, от которой зависит надежность ее работы, является барабанный нож. Нож в процессе работы контактирует с семенами сои и подвергается износу. Большое удельное давление, наличие абразивных частиц, агрессивная среда, высокие скорости вращения приводят к повышенному изнашиванию, остановке непрерывного высокопроизводительного производственного цикла и, как следствие, большим материальным потерям. Микротрещины, абразивный износ вызывают округление режущих кромок ножа, в результате - резкое снижение производительности машины. Лазерная обработка рабочих поверхностей барабана (боковых кромок прямоугольных продольных пазов), изготовленного из стали 40X13, позволяет формировать в поверхностном слое кромок структуру, которую нельзя получить ни одним из известных способов термической обработки. Эта структура обладает чрезвычайно высокой дисперсностью, равномерным распределением легирующих элементов и упрочняющих фаз, повышенной твердостью до 9500 - 10000 МПа на глубину до 1 мм, инертностью к воздействию агрессивных сред. Такое состояние поверхностного слоя рабочих участков барабана обеспечивает высокую сопротивляемость абразивному, адгезионному, усталостному и другим видам изнашивания.

Результаты испытаний
Готово к внедрению

Возможность передачи за рубеж:
Совместное доведение до промыш. уровня

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua