ТЕХНОЛОГИЯ СНИЖЕНИЯ ЗАГРЯЗНЕНИЯ ВОЗДУШНОГО БАССЕЙНА ХИМИЧЕСКИМИ ПРЕДПРИЯТИЯМИ
Назначение разработки:
Предназначено для укрепления поверхности, стойкой в коррозийном отношении аустенитной стали, из которой производятся клапаны, которые предотвращают эрозию замыкающих элементов высокоскоростной струей нагретого газа или жидкости, а также исключает протекание при закрытом клапане.
Рекомендуемая область применения:
Разработка может быть реализована на предприятиях химической промышленности Украины.
Преимущества перед аналогами:
Технология имеет ряд преимуществ, поскольку достигается путем укрепления поверхностного слоя стали, из которой производится запорно-регулирующая арматуры и оборудования, которые предотвращает эрозию и изнашивание уплотнений, которые замыкают протекание токсичных веществ.
Стадия готовности разработки:
Проверено в лабораторных условиях
Технико-экономический эффект:
Экономические преимущества базируются на малой стоимости предлагаемой технологии (укрепление 1 м кв. стоит приблизительно $5), низкими трудозатратами, значительным сохранением сырья.
Описание разработки:
() На подавляющем большинстве химических предприятий, например, предприятий по производству химических удобрений, искусственных волокон, моющих средств и др., начальное сырье, в частности, природный газ превращается в конечный продукт в резервуарах, автоклавах, химических реакторах, в которых идут химические реакции. Разработана технология укрепления поверхности, стойкой в коррозийном отношении аустенитной стали, из которой производятся клапаны, которые предотвращают эрозию замыкающих элементов высокоскоростной струей нагретого газа или жидкости, а также исключает протекание при закрытом клапане. Это существенно улучшает экологическую ситуацию вокруг химических предприятий. Разработанная технология введена на научно-производственном предприятии "Эконика", которое изготовляет оборудования, которые работают в средах с азоном.
Сведения о новизне разработки:
имеется патентов Украины -- 3 шт.
Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Фотоприложение
Cтрана
Украина
За дополнительной информацией обращайтесь: E-mail: gal@uintei.kiev.ua
|