Назначение разработки: Созданная разработка предназначена для осаждения толстых слоёв зеркально-блестящих медных покрытий на сталь и цинковые сплавы и защиты стальных изделий от обугливания при цементации.

Рекомендуемая область применения: Предприятия электрохимической промышленности.

Техническая характеристика: Техническая характеристика: - диапазон плотности тока - 0,1-2,0 А/кв.дм в условиях стационарного электролиза и 0,1-10,0 А/кв.дм при колебании штанги; - рассеивающая способность - 67-72 % в воротничке Херинга-Блюма; - выход по току - 100 %; - скорость осаждения - до 1,25 мкм/мин.; - корректирование после добавки - 0,1 начального количества после пропуска 20-25 А-год./л.

Стадия готовности разработки: Разработана рабочая документация

Технико-экономический эффект: Внедрение разработанного электролита в производство дает возможность повысить технико-экономические показатели процессов электролиза за счет экономии химических реактивов, воды и электроэнергии. Социальное значение проекта - существенное снижение загрязнения воды ядовитыми веществами и уменьшение количества отравляющих испарений непосредственно на рабочих местах гальванических производств. Экспертная себестоимость научно-технической разработки составляет около 120 тыс. грн.

Описание разработки:
()
Предлагается для замены цианистых електролитов меднения и пирофосфатних електролитов на основе пирофосфата калия. Электролит содержит основные неорганические компоненты (медь серная пятиводная и пирофосфат натрия десятиводний), вспомогательные компоненты (аммоний фосфорнокислый двузаменный, калий лимоннокислый двузаменный) и нетоксичную добавку которая даёт блеск. Характеристика покрытий - зеркально-блестящие, крепко сцепленные с основой, пластичные, толщина до 40-50 мкм. При толще больше 10 мкм - безпористые, относительное удлинение при толщине 30 мкм - 7-8 %. Новизна разработки - ноу-хау в составе электролита и использованной добавки которая даёт блеск.

Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов
Продажа технической документации

Фотоприложение

Cтрана Украина

За дополнительной информацией обращайтесь:
E-mail: gal@uintei.kiev.ua