ВАКУУМНО-ДИФФУЗНАЯ ГАЗОРАЗРЯДНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ МОДИФИКАЦИИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ В БЕЗВОДОРОДНОЙ СРЕДЕ
Назначение разработки:
Для повышения износостойкости, поверхностной прочности, коррозийной стойкости деталей машин – пар трения, обрабатывающего инструмента, штампов, пресс- и литейных форм, оснащения и т.п.
Рекомендуемая область применения:
Машиностроительные предприятия разных отраслей хозяйства.
Преимущества перед аналогами:
Модификация поверхности металлов по данной технологии повышает износостойкость, поверхностную прочность, коррозийную стойкость деталей машин – пар трения, обрабатывающего инструмента, штампов, пресс- и литейных форм, а также различной оснастки.
Стадия готовности разработки:
Проверено в лабораторных условиях
Описание разработки:
() Традиционно наиболее широко в качестве газовой среды используется аммиак. Однако результатом такого варианта процесса модификации является водородное охрупчивание. Другим недостатком является экологическая вредность процесса. Поэтому так перспективно выглядит технология безводородного азотирования в тлеющем разряде, которая является абсолютно экологически чистой и обеспечивает лучшую пластичность поверхности. Основу теории технологии, которая предлагается, составляет концепция безводородных газовых сред, в которых проводится азотирование, карбоазотирование и другие комбинированные процессы модификации металлов в тлеющем разряде. Впервые в мировой практике модель процесса базируется на энергетическом подходе. Некоторые элементы технологии защищены декларативными патентами, в частности: патент № 51910 «Система питания разрядной камеры пульсирующим током», патент № 51909 «Блок питания разрядной камеры для модификации поверхности металлов», патент № 51906 «Способ вакуумно-диффузного газоразрядного азотирования» патент № 51901 «Диодно-конденсаторная система питания процесса очистки поверхности металлических изделий».
Сведения о новизне разработки:
имеется патентов Украины -- 4 шт.
Возможность передачи за рубеж:
Продажа патентов Продажа лицензий Продажа технической документации
Фотоприложение
Cтрана
Украина
За дополнительной информацией обращайтесь: E-mail: gal@uintei.kiev.ua
|