Призначення розробки: Призначення: -- друк на папері та текстильних матеріалах в поліграфічній індустрії;; -- виготовлення упаковок для харчової індустрії; -- виготовлення анілоксових валів широкого діапазону діаметрів та довжин.

Рекомендована область застосування: Поліграфічна індустрія. Харчова промисловість.

Технічна характеристика: Основні технічні характеристики: Система іонної очистки Магнетрона система Енергія 300 – 2000 еV Активуючий газ азот, кисень Робочий газ аргон Робочий газ аргон Тиск (6 – 12) x 10-4 Torr Тиск (2 – 8) x 10-3 Torr Діаметр 10 – 40 мм Sputtering TiN rate 0,6 нм/с

Стадія завершеності розробки: Підготовлено до впровадження

Опис розробки:
()
Розроблена плазмова технологія є загальним технологічним процесом, який складається з іонного очищення, полірування та техніки нанесення покриття анілоксового валу. Ця технологія збільшує адгезію поверхні анілоксового валу та попереджує його забруднення. Осадження бінарних хімічних сполук (таких як нітридів, оксидів, карбідів) збільшує міцність та стійкість до корозії анілоксового шару та збільшує його вологостійкість. Спеціальна конструкція вакуумної камери дозволяє переміщати анілоксовий вал від зони нагріву до зони плазмової очистки, а потім в зону нанесення, де обертання циліндричного магнетрону формує покриття.

Результати дослiджень
Готове до впровадження

Можливість передачі за кордон:
Продаж патентів
Продаж ліцензій
Продаж техничної документації
Створення спільного підприємства

Фотодоповнення

Країна Україна

Для отримання додаткової інформації звертайтесь::
E-mail: gal@uintei.kiev.ua