Рекомендована область застосування: Електроніка, оптоелектроніка, медицина, хімічна технологія, приладо- і машинобудування.

Переваги перед аналогами: Електронно-променева технологія відрізняється від існуючих методів дугового і лазерного випаровування вуглецю наявністю багатьох параметрів тонкого регулювання основних стадій процесу випаровування, формування парового потоку і його конденсації: - Площі середніх значень швидкості випаровування і температури атомів (молекул), що випаровуються з поверхні "hot pool" вольфраму. - Температури, складу і молекулярної структури парового потоку після відбиття від нагрітих поверхонь, іонізації парового потоку, введення газів і домішок неорганічних та органічних речовин, включаючи каталізатори росту макромолекулярних структур типу нанотрубок, фулеренів. - Температури поверхні конденсації орієнтованого парового потоку в інтервалі від кімнатної до 1000-1200 град.С та відповідних структур від аморфних до нано- і мікро- розмірних. Було продемонстровано можливість одержання макромолекулярних (фулерени, нанотрубки) і алмазоподібних структур, карбідів та композиційних матеріалів (покриттів) на їхній основі. Є дослідно-промислового електронно-променевого устаткування потужністю 250 кВт, адаптована до зазначених технологічних варіантів.

Стадія завершеності розробки: Випробувано в режимі дослідної експлуат

Опис розробки:
()
Технологія базується на запропонованому нами і запатентованому в Україні і США методі електронно-променевого випаровування вуглецю (графіту) з використанням рідкої ванни вольфраму і наступної конденсації парового потоку. Випаровування здійснюється в такий спосіб: на торці циліндричного блоку діаметром 50-100 мм і заданої довжини утримується плоско-циліндрічна таблетка вольфраму висотою 5-10 мм, що розплавляється електронним променем і утворює "hot pool". Встановлюється безперервний транспортний процес розчинення вуглецю в об’ємі рідкої ванни, наступного випару з поверхні ванни й утворення інтенсивного парового потоку атомів (кластерів) вуглецю. Вольфрам при цьому практично не випаровується. Поруч із зазначеним джерелом випаровування вуглецю розташовується інше незалежне традиційне джерело електронно-променевого випаровування металевих і неметалевих речовин, що при необхідності, шляхом випару, вводяться в основний паровий потік вуглецю. (є можливість застосувати і третє джерело). Останнім часом цей метод був удосконалений шляхом застосування техніки відбиття парового потоку вуглецю (або вуглецю з добавками) від нагрітих до високих температур (1000-1800 град.С) поверхонь (дзеркал) з метою формування в просторі парових потоків заданої орієнтації і більш однорідних за складом, структурою та енергією часток. Це удосконалення необхідне для подальшого осадження парового потоку і " конструювання" заданої структури конденсатів. У якості додаткових технологічних параметрів регулювання процесу осадження і структури конденсатів можна застосувати іонізацію парового потоку і введення газів у вакуумну камеру. Температура поверхні осадження - один з основних технологічних параметрів, який контролює структуру конденсатів. Швидкість випару блоку графіту діаметром 70 мм дорівнює 1,0-1,1 кг/год.

Відомості про новизну розробки:
є патентів України -- 1 шт.
є патентів інших країн -- 1 шт.

Результати дослiджень
Забезпечує отримання стабільних результ

Можливість передачі за кордон:
Продаж патентів

Фотодоповнення

Країна Україна

Для отримання додаткової інформації звертайтесь::
E-mail: gal@uintei.kiev.ua