Призначення розробки: Призначений для підвищення зносостійкості голографічних робочих матриць при тисненні з них голографічної продукції, підвищення продуктивності процесу тиснення, зниження собівартості голографічної продукції.

Рекомендована область застосування: Голографія, проектування й конструювання електронних приладів і радіоелектронної апаратур, обробка поверхонь і нанесення покриттів.

Переваги перед аналогами: Аналогів розробленому технологічному процесу не виявлено. Вартість нанесення зносостійкого захисного покриття не перевищує 8-10 % вартості голографічної робочої матриці при збільшенні її зносостійкості в ~2 рази. Процес нанесення захисних покриттів не погіршує екологічну обстановку навколишнього середовища.

Стадія завершеності розробки: Впроваджено в виробництво

Техніко-економічний ефект: Зниження собівартості голографічної продукції.

Опис розробки:
()
Підвищення зносостійкості робочих матриць засновано на захисті їх голографічного мікрорельєфу найтоншим надтвердим покриттям з алмазоподібного вуглецю, що не спотворює дифракційної ефективності голографічної продукції. Товщина захисного вуглецевого покриття не перевищує 100 нм. Необхідна товщина покриття задається параметрами процесу. На поверхню робочих матриць захисне покриття наноситься методом плазмового осадження. Технологічний процес може бути реалізований на серійних вакуумних установках з їхніми мінімальними переробками, щодо вимог процесу. Розроблювачами процес реалізований з використанням вакуумної установки УВН-71П-3 після її відповідної модернізації. Технологічний процес може бути адаптований для збільшення зносостійкості тертьових деталей, зниження коефіцієнта тертя між ними, збільшення строку їхньої експлуатації. Виготовлено дослідну партію голографічних робочих матриць із модифікованою поверхнею. Впроваджено технологічний процес виготовлення модифікованих робочих матриць.

Можливість передачі за кордон:
Продаж патентів
Продаж техничної документації

Фотодоповнення

Країна Білорусія

Для отримання додаткової інформації звертайтесь::
E-mail: gal@uintei.kiev.ua